“에이치피에스피, 반도체 경기와 무관하게 고성장 중”
반도체 미세공정화의 수혜
[뉴스투데이=장원수 기자] FS리서치는 30일 에이치피에스피에 대해 독점기업이 보여주는 실적 퀄리티라고 전했다.
황세환 FS리서치 연구원은 “에이치피에스피는 2017년에 설립된 고압 어닐링 장비 전문기업으로 고압수소를 활용하여 반도체의 성능을 개선하는 장비를 개발 및 생산하고 있다”며 “반도체 생산공정에서 High-K 소재를 사용하여 트랜지스터의 막을 형성할 때 28나노 이하 공정에서 발생하는 터널링 현상으로 인한 누설전류를 막기 위해 에이치피에스피의 장비가 도입됐다”고 밝혔다.
황세환 연구원은 “한편 High-K 소재를 사용하면 Interface Defect가 기존 대비 100배나 증가하여 반도체 성능을 떨어뜨린다는 단점도 있는데, 고압수소 어닐링을 통해 수소를 화학 작용시켜 Interface Defect를 전기적으로 비활성화 시킴으로써 집적회로의 속도를 현저히 개선시킬 수 있다”며 “에이치피에스피의 장비는 수소농도를 초고압으로 구현했을 뿐만 아니라 450℃ 이하에서 작동한다는 점이 경쟁사와의 차이점”이라고 설명했다.
이어 “전 세계 유일한 장비를 개발함으로서 글로벌 비메모리 업체와 10년 이상 독점적으로 거래해왔고 최근 메모리 업체에도 공급을 시작했다”고 덧붙였다.
황 연구원은 “앞서 언급한 것처럼 에이치피에스피의 장비는 28나노 이하에서 발생하는 터널링 현상과 Interface defect를 개선하기 때문에 반도체 공정이 미세화될수록 장비 수요가 추가로 발생할 전망”이라며 “회사 측은 경쟁사의 장비가 나노 이하는 적용이 불가하다고 보는 반면, 에이치피에스피의 장비는 나노까지도 적용되고 있어 경쟁업체들과의 격차는 더 벌어질 가능성도 있다”고 지적했다.
이어 “글로벌 반도체 업체들의 공정미세화는 지속될 전망이어서 에이치피에스피에 중장기적 수혜가 기대된다”고 부연했다.
그는 “메모리업체에 에이치피에스피 장비의 공급이 본격화되고 있다는 점도 긍정적인 포인트”라며 “2011~2020년까지는 파운드리 업체 위주로 공급되었는데 2021년에 메모리 업체로 판매가 시작되면서 실적 고성장을 시현했고, 올해도 그 성장률이 지속되고 있다”고 말했다.
그는 “에이치피에스피의 올해 매출액은 전년 동기대비 36.2% 늘어난 1250억원, 영업이익은 54.9% 증가한 700억원을 기록할 것으로 예상하고 있다”며 “반도체 업황이 부진한데도 에이치피에스피가 이렇게 고성장하고 있는 이유는 2021년부터 시작된 메모리업체로의 공급이 본격화되고 있기 때문”이라고 전단했다.
그는 “1분기에도 매출액 371억원, 영업이익은 211억원을 기록했다”며 “또한 기존 고객사들이 신규라인 투자는 못하더라도 공정 미세화와 수율개선을 위한 투자는 지속하고 있기 때문에 견조한 실적을 낸 것으로 판단된다”며 “메모리업체 역시 신규 라인 투자를 해서 에이치피에스피가 진입하고 있는 것이 아니고 기존라인에 공급한게 상당 부분을 차지한다”고 분석했다.
그는 “1분기 말 기준으로 수주잔고가 900억원 이상이고 리드타임은 1년 정도여서 실적 전망치는 달성할 가능성이 있어보인다”고 전망했다.
그는 “신제품도 꾸준히 개발 중인데 이르면 올해 안에 습식산화막공정 장비가 출시될 수도 있다”며 “이 장비는 Furnace 형태의 장비로 경쟁사는 TEL”이라고 말했다.
그는 “회사 측은 메모리업체로의 공급이 앞으로도 증가할 것으로 예상하고 있어 공모자금으로 설비투자를 진행할 예정”이라며 “현재 연간 40대 수준의 생산능력을 내년까지 80대로 확대할 계획이고 투자금액은 385억원”이라고 내다봤다.
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