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삼성전자, 지난달 평택 2라인 클린룸 공사 착수…낸드 ‘초격차’ 가속

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오세은 기자
입력 : 2020.06.01 11:02 ㅣ 수정 : 2020.06.01 11:02

[뉴스투데이 E]의 E는 Economy(경제·생활경제)를 뜻합니다. <편집자 주>

 

삼성전자 평택캠퍼스 생산 2라인 전경.[사진제공=삼성전자]
 
 

[뉴스투데이=오세은 기자] 삼성전자가 지난달 평택캠퍼스 2라인에 낸드플래시 생산을 위한 클린룸 공사에 착수했다. 인공지능(AI), 사물인터넷(IoT) 등 5G 보급에 따른 중장기 낸드 수요 확대에 대응하기 위해서다.

 

클린룸은 반도체를 만드는 일련의 공정 중 하나로, 마이크로 단위의 작은 물질을 걸러내는 곳이다. 반도체는 아주 작은 먼지로도 불량이 발생할 수 있어 생산공정에서 무균청정지역(클린룸)을 유지한다.

 

삼성전자는 평택 2라인에 낸드플래시 생산라인을 구축하는 투자를 단행한다고 1일 밝혔다.

 

투자가 단행된 이곳에서는 최첨단 V낸드 제품이 양산될 예정이며, 양산 시기는 2021년 하반기로 예상된다. 지난 2015년 조성된 평택캠퍼스는 삼성전자의 차세대 메모리 전초기지로서 세계 최대규모의 생산라인 2개가 건설된 곳이다.

 

삼성전자 메모리사업부 전략마케팅실 최철 부사장은 “이번 투자는 불확실한 환경 속에서도 메모리 초격차를 더욱 확대하기 위한 노력”이라며 “최고의 제품으로 고객 수요에 차질없이 대응함으로써 국가 경제와 글로벌 IT산업 성장에 기여할 것”이라고 말했다.

 

2002년 낸드플래시 시장 1위에 오른 삼성전자는 18년 이상 글로벌 낸드플레시 시장에서 1위를 수성하고 있다. 지난해 7월에는 업계 최초로 6세대 V낸드 제품을 양산한 바 있다.

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